温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

在预处理过程中，氢等离子体用于从晶片的表面去除污染物(例如氧、碳)。氢等离子体可以通过细长的注入器喷嘴注入等离子体腔室。使用这种细长的注入器喷嘴，具有显著径向速度的氢等离子体流在晶片表面上流动，并将挥发性化合物和其他污染物从晶片表面传输到排...
该专利属于艾克斯特朗欧洲公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克斯特朗欧洲公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。