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描述了生产基于流体流的化学反应器装置的方法。该方法包括：获得具有由通道壁限定的流体通道的基材，其中，将有序组的硅柱结构定位在流体通道中，并至少对硅柱结构进行电化学阳极化，以使硅柱结构至少多孔至一定深度。在阳极化后，对基材和柱结构进行热处理，...
该专利属于制药流体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过制药流体股份有限公司授权不得商用。

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