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本实用新型公开了一种专用于回旋加速器内刚性离子源的位置调节机构，支撑架中设置有导轨一，支撑架外部安装有驱动装置一，驱动装置一连接有传动装置一，传动装置一与导轨一连接；支撑架固定有用于与加速器外壳固定的法兰一，导轨一上连接有导轨二，导轨二上设...
该专利属于中国工程物理研究院流体物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院流体物理研究所授权不得商用。

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