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一种用于四氯化锡反应器的均匀加热装置，本实用新型涉及化学加热设备技术领域；底座的前侧面上设有一号开关，底座的底部设有底板，底板上表面的左侧设有一号电路板，底板上表面的右侧设有直流电源，底座内部的顶端设有一号隔热层，底座的上方设有一号保温层，...
该专利属于余洪芳所有，仅供学习研究参考，未经过余洪芳授权不得商用。

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