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磁隧道结及其形成方法、磁存储器技术
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文档序号:24463977
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本发明提供一种磁隧道结及其形成方法、磁存储器,该磁隧道结从下到上依次包括:第一铁磁层、氧化物势垒层、第二铁磁层以及第一体磁各向异性铁磁层;所述第二铁磁层和所述第一体磁各向异性铁磁层作为所述磁隧道结的自由层;所述第一铁磁层作为所述磁隧道结的参...
该专利属于北京航空航天大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京航空航天大学授权不得商用。
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