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公开了一种基板处理设备，其包括：腔室，在所述腔室中具有处理空间，基板在所述处理空间中被处理；基板支撑组件，所述基板支撑组件位于所述腔室中并且包括支撑所述基板的支撑板；气体供应单元，所述气体供应单元将气体供应到所述腔室中；气体分配板，所述气体...
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