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本发明公开了一种分级点阵结构，包括外部薄壁结构和填充于所述外部薄壁结构内的内部点阵结构；所述外部薄壁结构为宏观尺寸，内部点阵结构为介观尺寸；本发明创新性地提出在宏观尺寸下填充介观尺寸级别的点阵结构从而形成分级点阵结构，不仅进一步地增强了点阵...
该专利属于重庆大学所有，仅供学习研究参考，未经过重庆大学授权不得商用。

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