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本实用新型提供一种清洗槽及修整器清洗系统。清洗槽包括：支撑体和壳体；支撑体包括支撑柱和套设于支撑柱上的支撑面板；壳体具有环形侧壁且呈中空状；在清洗槽工作过程中，支撑面板卡设于壳体内以在壳体的上部间隔出清洗空间以用于清洗修整器，清洗空间的高度...
该专利属于上海新昇半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新昇半导体科技有限公司授权不得商用。

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