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本发明公开一种真空蒸馍设备，包括真空室；蒸发源；第一晶振座；第一晶振；第一传感器；前反馈控制模块；基片；基片挡板；第一驱动装置；第二晶振座；第二晶振；第二传感器；后反馈控制模块；蒸发源挡板；第二驱动装置；总控制模块，用于将蒸发速率与预定蒸发...
该专利属于成都晶砂科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都晶砂科技有限公司授权不得商用。

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