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本实用新型涉及半导体材料制备技术领域，更具体而言，涉及一种炉体温度可调的冷壁单晶炉，该装置包括晶体生长装置与恒温冷壁炉，所述晶体生长装置设置在恒温冷壁炉内；通过对恒温冷壁炉温度与炉内压力的控制实现晶体生长特定温度场；采用恒温冷壁炉避免环境对...
该专利属于山西中科晶电信息材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山西中科晶电信息材料有限公司授权不得商用。

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