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本实用新型公开一种原子层沉积设备。本实用新型提供的原子层沉积设备包括：真空反应室、载气瓶、载气管路、前驱体源瓶和前驱体管路。其中，真空反应室包括沉积室和真空室，沉积室设于真空室的腔体内，且沉积室与真空室可拆卸连接。载气瓶通过载气管路与沉积室...
该专利属于浙江祺跃科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江祺跃科技有限公司授权不得商用。

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