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一种反射式极化扭转基片集成频率选择表面制造技术
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文档序号:24278748
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本实用新型公开了一种反射式极化扭转基片集成频率选择表面,采用SIW腔体,所述SIW腔体的顶部刻出水平放置的槽和垂直放置的槽;水平极化的平面波通过垂直放置的槽耦合进入SIW腔体,在腔内激励出的主模TM...
该专利属于南京信息工程大学所有,仅供学习研究参考,未经过南京信息工程大学授权不得商用。
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