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本发明提供一种用于硅晶片清洗后干燥、去污的装置及方法。本发明包括：箱体，箱体内部设有容纳待处理硅晶片的空间，箱体包括物料进出口，所述箱体外壁布置多个微波源，其用于挥发掉硅晶片表面的水和污染残留，所述箱体设有进风口和出风口，所述进风口外部连接...
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