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一种新型研磨抛光设备，其特征在于：包括机架、料筒、升降装置、旋转装置、控制箱、上下料装置；所述料筒上面开口，放置在机架上，用于盛放磨料；所述料筒侧面设置把手；所述上下料装置由若干滚筒组成，安装在机架上，置于所述料筒的下方；所述控制箱安装在机...
该专利属于厦门铭意真空科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门铭意真空科技有限公司授权不得商用。

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