温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开了一种去除氧化层的清洗装置包括机架、料仓、清洗机构和输送机构。料仓被配置为存放多个待清洗片，多个待清洗片层叠放置，清洗机构设在机架上，清洗机构包括间隔开设置的两个激光清洗模块，两个激光清洗模块可分别清洗待清洗片的正反两面，输送...
该专利属于深圳市科达利实业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市科达利实业股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。