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一种高靶材转化率的圆柱旋转磁控溅射阴极制造技术
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下载一种高靶材转化率的圆柱旋转磁控溅射阴极的技术资料
文档序号:24169191
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本实用新型涉及圆柱旋转磁控溅射阴极,公开了一种高靶材转化率的圆柱旋转磁控溅射阴极,其核心是阴极磁棒,其包括柱形的中空靶材(1),靶材(1)的内部设有磁路模块,磁路模块包括磁轭(2)和磁钢组(3),磁钢组(3)由三道呈一定角度的磁钢(4)组成...
该专利属于杭州朗为科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州朗为科技有限公司授权不得商用。
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