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一种硅料清洗剂,包括了清洗剂SX1和清洗剂SX2两部分；所述清洗剂SX1由柠檬酸、乙酸、甜菜碱和高纯水配置组成，质量比为柠檬酸0.5‑1份、乙酸0.2‑0.5份、甜菜碱0.5‑1.0份、余量为高纯水；所述清洗剂SX2由氢氟酸配置去离子水制成...
该专利属于宁夏中晶半导体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宁夏中晶半导体材料有限公司授权不得商用。

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