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本发明提供一种处理基板的表面区域的处理头，其包括壳体、排放开口、辐射式加热器、等离子源以及出口开口。壳体具有主表面，主表面被配置成邻近欲被处理的基板的表面区域设置且面对基板的表面区域。排放开口位于壳体的主表面中，且能够经由至少部分地形成于壳...
该专利属于休斯微科光罩仪器股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过休斯微科光罩仪器股份有限公司授权不得商用。

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