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本发明公开了一种屏蔽膜及其制造方法，所述屏蔽膜包括一基材层、至少一层聚合物层、两层屏蔽层以及两层吸波层，所述基材层与所述聚合物层连接或通过一层吸波层与所述聚合物层连接，所述基材层朝向所述聚合物层的一面具有若干凹槽，所述聚合物层远离所述基材层...
该专利属于苏州大学所有，仅供学习研究参考，未经过苏州大学授权不得商用。

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