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本发明提供了一种光刻装置、光刻装置的垂向控制方法及曝光方法，所述测量单元获取所述物料表面的面型数据，所述掩模单元、投影物镜单元或所述物料承载单元根据所述物料表面的面型数据垂向运动，以使所述物料的表面与所述投影物镜单元的最佳焦面重合，提高了曝...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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