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本实用新型涉及真空炉设备技术领域，尤其是涉及一种多用真空炉系统，包括多个真空炉、搬送室和旋转盘；多个真空炉围绕旋转盘呈环形分布；搬送室位于旋转盘上，且搬送室在旋转盘的带动下旋转，使搬送室的出料口朝向不同的真空炉；旋转盘上设置有直线轨道，搬送...
该专利属于爱发科真空技术(沈阳)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过爱发科真空技术(沈阳)有限公司授权不得商用。

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