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本发明公开了一种用于400‑1000nm波段的单层梯形光栅结构及其制备方法，解决了现有多层光栅结构选材复杂，加工工艺步骤多、误差大的问题。本发明包含光栅层和基底层；所述光栅层为单层梯形光栅结构；所述单层梯形光栅结构为单层光栅层的表面蚀刻出均...
该专利属于西北工业大学深圳研究院所有，仅供学习研究参考，未经过西北工业大学深圳研究院授权不得商用。

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