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一种真空提升装置,它包括底座（1）、立柱（2）、第一支撑臂（3）、第二支撑臂（4）、提升气管（5）和真空吸盘（6），底座（1）上设有多个配重块（7），底座（1）顶部设有罩体（8），且在罩体（8）上开有立柱避让孔，立柱（2）底部一端穿过罩体（...该专利属于摩根凯龙(荆门)热陶瓷有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过摩根凯龙(荆门)热陶瓷有限公司授权不得商用。
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一种真空提升装置,它包括底座（1）、立柱（2）、第一支撑臂（3）、第二支撑臂（4）、提升气管（5）和真空吸盘（6），底座（1）上设有多个配重块（7），底座（1）顶部设有罩体（8），且在罩体（8）上开有立柱避让孔，立柱（2）底部一端穿过罩体（...