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本发明涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。一方面，本发明通过在显示区设置有机层。由此可以释放阵列基板在多次弯折时产生的应力。另一方面，本发明在不增加新的掩膜板数量的前提下，通过半色调掩膜工艺对凹槽处的有机材料进行部分去除，对显示区的其他...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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