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本发明公开了一种微型全分析器件及其制作方法，该器件包括：基板；刻蚀在基板一面上的主通道，主通道内填充有第一光传输介质；刻蚀在基板一面上的至少两个副通道，副通道内填充有第二光传输介质，副通道一端与主通道连通，且与主通道之间形成夹角；副通道的上...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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