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本发明涉及薄膜及其制备方法，具体为一种青苔抑制薄膜、多层青苔抑制薄膜及其制备方法；包括薄膜本体和光触媒抑制层，光触媒抑制层包括按重量百分比计的抑制剂15％～22％，有机载体55％～65％，光稳定剂10％～15％和抗氧化剂9％～16％；薄膜本...
该专利属于徐蕾所有，仅供学习研究参考，未经过徐蕾授权不得商用。

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