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本实用新型提供一种全自动喷雾式制备薄膜的装置，所述装置是利用全自动交替喷雾液相外延法在基底表面制备薄膜的装置，包括：供气系统，气体调节系统，压力容器，数控系统，雾化喷头，基底支撑架，外部箱体。所述装置可以根据需求对控制系统设置相应参数，能够...
该专利属于中国科学院福建物质结构研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院福建物质结构研究所授权不得商用。

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