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一种高密度的相变存储器三维集成电路结构制造技术
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文档序号:23626440
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本发明公开了一种高密度的相变存储器三维集成电路结构,其特征在于:包括选通管单元和n个相变存储单元,其n为整数,n≥2;所述选通管单元的第一端接地,第二端同时与所述n个相变存储单元相连;所述n个相变存储单元并列排布,各相变存储单元的一端共同连...
该专利属于华中科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过华中科技大学授权不得商用。
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