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本发明公开了一种超声成像方法及设备,用于降低超声装置成像所需的功耗,且减少成像时间,提高成像质量。其中的超声成像方法包括:采用预设的第一成像步长,依次将发射超声波聚焦到第一区域的第一焦点和第二区域的第二焦点,并对所述第一区域和所述第二区域进...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种超声成像方法及设备,用于降低超声装置成像所需的功耗,且减少成像时间,提高成像质量。其中的超声成像方法包括:采用预设的第一成像步长,依次将发射超声波聚焦到第一区域的第一焦点和第二区域的第二焦点,并对所述第一区域和所述第二区域进...