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本发明涉及多孔陶瓷材料技术领域，具体是一种低温烧结氧化铝陶瓷膜的制备方法。其主要特征在于创新性设计出一种能在1200～1300℃范围内烧成氧化铝陶瓷的烧结助剂，该烧结助剂的添加使得氧化铝多孔陶瓷材料的烧成温度明显降低，有效节约烧结能耗和时间...
该专利属于浙江理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江理工大学授权不得商用。

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