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一种激光离焦加工时的光斑功率密度场测量建模方法技术
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文档序号:23558545
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本发明公开了一种激光离焦加工时的光斑功率密度场测量建模方法,其包括如下步骤:(1)利用激光光斑分析测量平台对某个具体激光光斑的功率和光强密度(也称“光亮度”)分布进行测量;(2)通过对测量得到的光亮度数据进行拟合,建立所测光斑的光亮度场数学...
该专利属于上海航天精密机械研究所所有,仅供学习研究参考,未经过上海航天精密机械研究所授权不得商用。
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