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本发明公开了一种用于化工设备的清洗装置，包括化工桶与盖板，所述化工桶底部开设有排污口，所述盖板活动设置在化工桶上端，所述盖板下端面固定设置有缓冲层，所述盖板上端两侧安装有液压缸，所述液压缸顶部固定设置有承载板，所述盖板与承载板上活动设置有空...
该专利属于章红忠所有，仅供学习研究参考，未经过章红忠授权不得商用。

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