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本申请案涉及晶片配准及重叠测量系统以及有关方法。一种方法包含向晶片施加磁场，检测从所述晶片内的第一组配准标记中的至少一个配准标记发射的至少一个残余磁场，响应于所述所检测到的残余磁场，确定所述第一组配准标记中的所述至少一个配准标记的位置，确定...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

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