温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种单晶硅片的清洗烘干装置，包括顶部、红外感应装置、化学清洗池、物理清洁池和烘干室，顶部的下方从左至右依次是取片室、化学清洗池、物理清洁池、烘干室和封装室，顶部包括顶板、传送装置和伸缩装置，通过伸缩装置和红外感应装置，完成硅片在...
该专利属于无锡乐东微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡乐东微电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。