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本发明公开了一种用于多点光谱探测的三维自扫描装置，包括光学反射系统、光学聚焦单元、电控三维平移系统、光学成像系统、计算机控制单元；光学反射系统用于将探测光反射，并经光学聚焦单元聚焦后照射到样品表面；电控三维平移系统用于带动光学反射系统和光学...
该专利属于中国工程物理研究院材料研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国工程物理研究院材料研究所授权不得商用。

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