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本发明提供了一种基于辅助沉积的膜层改性方法及系统，包括：预处理步骤：在沉积Ag膜之前，对玻璃基底采用离子源清洗；辅助沉积步骤：在沉积Ag膜过程中，通过调节所述离子源的功率、工作气体通量以及公自转速度来改变到达玻璃基底表面的离子能量和离子密度...
该专利属于上海卫星装备研究所所有，仅供学习研究参考，未经过上海卫星装备研究所授权不得商用。

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