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一种通过一步合成基于稠环和苯并噻二唑的高性能共轭小分子半导体材料制造技术
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下载一种通过一步合成基于稠环和苯并噻二唑的高性能共轭小分子半导体材料的技术资料
文档序号:23392910
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本发明公开了一种通过一步合成基于稠环和苯并噻二唑的高性能共轭小分子半导体材料,依据苯并噻二唑为受体单元,稠环为给体单元,设计一种可溶液处理的共轭小分子半导体材料,具有小分子明确的结构和共轭聚合物优异的成膜性能,利用分子内和分子间的D/A相互...
该专利属于合肥工业大学所有,仅供学习研究参考,未经过合肥工业大学授权不得商用。
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