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本发明公开一种布料阵列图案偏移扎染装置，包括底座，其特征在于：所述底座固定连接一组均匀分布的圆杆二的一端，每个所述圆杆二的另一端分别固定连接圆盘二的下侧，所述圆盘二固定连接一组均匀分布的竖板二，所述圆盘二固定连接一组均匀分布的竖板一，所述底...
该专利属于陈美红所有，仅供学习研究参考，未经过陈美红授权不得商用。

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