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本发明公开了一种阵列基板及其制作方法。阵列基板包括玻璃基板、遮光层、缓冲层、氧化物半导体层、栅极绝缘层、栅极金属层、氧化铝层、层间绝缘层、源漏极金属层以及钝化层。阵列基板的制作方法包括步骤：提供一玻璃基板、制作遮光层、制作缓冲层、制作氧化物...
该专利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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