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本实用新型专利公开了一种瓷器釉色烧制设备，包括烧制装置壳体，所述烧制装置壳体的内侧壁对称设置有两组限位块，所述限位块开设有限位槽，所述限位块设置有与所述限位块垂直的滑道，所述滑道纵向贯穿开设有滑槽，所述滑槽的截面呈T字形结构，所述滑道通过所...
该专利属于李海涛所有，仅供学习研究参考，未经过李海涛授权不得商用。

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