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本发明公开了一种便于在线监控的凹陷结构，包括介质层Ⅰ和位于介质层Ⅰ上方的介质层Ⅱ，所述介质层Ⅰ中包括金属通孔和金属接触层，所述金属接触层位于所述金属通孔的上方；所述介质层Ⅱ中包括位于金属接触层上方的锥形凹槽，所述锥形凹槽具有倾斜侧壁，且所述...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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