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本发明公开了一种基于平面基准约束与余量约束的配准方法，包括获取包含预设数量第一测量点的基准平面和包含预设数量第二测量点的待加工面；根据所述基准平面的第一测量点得到所述基准平面相对于理论基准平面的位置参数信息；将所述基准平面的第一测量点的位置...
该专利属于中国航空制造技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国航空制造技术研究院授权不得商用。

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