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一种带纳米级凹槽的光学保护膜制造技术
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文档序号:23110224
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本实用新型公开了一种带纳米级凹槽的光学保护膜,包括保护膜主体,所述保护膜主体的表面设有印刷层,所述保护膜主体包括基质层、离型层和耐磨层,所述离型层和耐磨层分别位于基质层的上、下表面,所述离型层与基质层吸附连接,所述耐磨层与基质层固定连接,所...
该专利属于安徽普恒光学材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过安徽普恒光学材料有限公司授权不得商用。
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