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一种用于平衡速度选择仪端部电磁场非均匀性的结构制造技术
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文档序号:23056684
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本发明涉及一种用于平衡速度选择仪端部电磁场非均匀性的结构,其包括准直管头部、准直管、过渡杆、壳体上层、壳体下层、电磁屏蔽层、绝缘层;其中整体结构长宽尺寸均不超过40毫米,中心测量孔通道直径5毫米,设置多个安装通孔;过渡杆与壳体采用圆弧面配合...
该专利属于北京航空航天大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京航空航天大学授权不得商用。
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