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本实用新型公开了一种用于铜带的清洗打磨装置,包括机壳,所述机壳内设置有限位轮组,所述限位轮组中部设置有铜带,所述限位轮组一侧设置有两个打磨机构,两个所述打磨机构沿铜带上下对称设置,两个所述打磨机构一侧均设置有高压水枪,两个所述高压水枪一侧均...该专利属于天水华洋电子科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过天水华洋电子科技股份有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种用于铜带的清洗打磨装置,包括机壳,所述机壳内设置有限位轮组,所述限位轮组中部设置有铜带,所述限位轮组一侧设置有两个打磨机构,两个所述打磨机构沿铜带上下对称设置,两个所述打磨机构一侧均设置有高压水枪,两个所述高压水枪一侧均...