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本实用新型涉及一种铝电解电容平送装置，包括基座，在基座的顶面设有2块平送调节块，2块平送调节块之间形成通槽，铝电解电容引线朝下地立于通槽内，通槽下方设有用于对铝电解电容的引线产生吸力的吸引部，其特征在于，通槽上方设有用于将自由下落的铝电解电...
该专利属于上海永铭电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海永铭电子股份有限公司授权不得商用。

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