温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了连续式硅碳负极动态CVD烧结炉，包括安装平台、螺旋进料器、炉头罩、炉管和炉尾罩，炉管头端位于炉头罩内且尾端位于炉尾罩内，螺旋进料器与炉头罩密封对接，炉尾罩上设有出料口，炉管头端于炉头罩之外的部分设有第一密封法兰，第一密封法兰与炉...
该专利属于中国电子科技集团公司第四十八研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第四十八研究所授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。