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一种防止wafer刮伤污染的料盒制造技术
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下载一种防止wafer刮伤污染的料盒的技术资料
文档序号:22553154
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本实用新型公开了一种防止wafer刮伤污染的料盒,包括盖体、底座、卡座和收纳槽,所述底座的顶部设有收纳槽,所述收纳槽外侧的底座上表面设有扩张环放置槽,所述底座顶部的一端铰接有盖体,所述盖体与底座之间通过扭簧相铰接,所述盖体的内侧设有凹槽。本...
该专利属于湘能华磊光电股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过湘能华磊光电股份有限公司授权不得商用。
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