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本实用新型涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种针对超薄基板的颜色膜，其特征在于：所述颜色膜自所述超薄基板以上依次叠加设置有打底层，在所述打底层的上方依次交替设置有高折射率层以及低折射率层；其中打底层为硅的氧化物层，高折射率层为氧化铌层，低折射...
该专利属于光驰科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光驰科技（上海）有限公司授权不得商用。

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