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本发明提供一种基板处理装置，其具备：反应管，其容纳基板；盖部，其封闭形成于反应管的炉口；加热器，其设置于反应管的炉口附近的侧壁的外周；多个温度传感器，其构成为分别测量反应管的炉口附近的侧壁上的在侧壁的周向上互相不同的多个位置的温度；以及控制...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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